电子束挥发（Electron Beam Evaporation）是物理气相千里积的一种花样，其中待挥发材料被来自带电钨丝的电子束轰击，当电子束撞击筹算材料时，它的能量更正为热能，使筹算材料达到挥发的情景，并将其更正为气态，在高真空室中，这些挥发的原子或分子随后千里积在基板上酿成薄膜。

电子束挥发真空镀膜确立常见蒸镀蒸镀AR / AF涂层，硬质膜、隐敝膜、ITO膜 、带通滤光片、HR膜等，具灵验果高，它还具有用于航空航天工业的耐磨和热障涂层、切削和用具工业的硬涂层的潜在工业应用。分娩才略更强，分娩本钱更低等上风，镀制AR膜（基材玻璃透过率＞91.5%），420-680nm波段，单面平均透过率＞95%，反射率小于0.5（平均值）%。双面平均透过率＞98%，反射率小于0.5（平均值）%。市面应用粗造。

电子束挥发不错挥发高熔点材料，比一般电阻加热挥发烧效果高、 束流密度大、挥发速率快，制成的薄膜纯度高、质料好，厚度不错较准确地末端，不错粗造应用于制备高纯薄膜和导电玻璃等多样光学材料薄膜。

在功能方面，电子束镀膜工夫具有以下特色：

1.高精度镀膜：无意终了对薄膜厚度和要素的精准末端，从而制备出具有特定性能的薄膜。

2. 可诊疗性强：不错便捷地诊疗薄膜的物理、化学性质，以知足不同应用的需求。

3. 高质料薄膜：所制备的薄膜具有淡雅无比的均匀性、淡雅无比性和通晓性。

4. 适用边界广：适用于多种材料的镀膜，包括金属、半导体、氧化物等。

电子束挥发工夫旨趣

依靠电子束轰击挥发的真空蒸镀工夫，阐明电子束挥起始的花样不同，又可分为环形枪，直枪，e型枪和空腹阴极电子枪等几种。

环形枪：是由环形的阴极来放射电子束，经聚焦和偏转后打在坩锅内使金属材料挥发。它的结构较浮浅，然而功率和效果齐不高，基本上仅仅一种实践室用真是立，现在在分娩型的安装中仍是不再使用。

直枪：一种轴对称的直线加快枪，电子从灯丝阴极放射，聚成细束，经阳极加快后打在坩锅中使镀膜材料融解和挥发。

E型枪：即270摄氏度偏转的电子枪克服了直枪的错误，是现在用的较多的电子束挥起始之一。

空腹阴极电子枪：欺诈低电压，大电流的空腹阴极放电产生的等离子电子束当作加热源。空腹阴极电子枪用空腹的钽管当作阴极，坩锅当作阳极，钽管隔壁装有援救阳极。欺诈空腹阴极电子枪蒸镀时，产生的挥发离子能量高，离化率也高，因此，成膜质料好。

1. 电子束产生：通过电子枪产生高速电子束。

2. 加快与聚焦：对电子束进行加快和聚焦，使其具有填塞的能量。

3. 靶材轰击：电子束轰击靶材，使靶材原子或分子溅射出来。

4. 薄膜千里积：溅射出来的原子或分子在基片上千里积，酿成薄膜。

5.末端参数：通过末端电子束的能量、密度、轰击时候等参数，终了对薄膜厚度、要素和结构的末端。

电子束挥发优点：

（1）电子束轰击热源的束流密度高，能赢得远比电阻加热源更大的能量密度。不错将高达3000度以上的材料挥发，况兼能有较高的挥发速率；

（2）由于被挥发的材料是置于水冷坩锅内，因而可幸免容器材料的挥发，以及容器材料与蒸镀材料之间的响应，这对提高镀膜的纯度极为曲折；

（3）热量可成功加到蒸镀材料的名义，因而热效果高，热传导和热辐射的亏空少。

电子束镀膜材料选拔

取决于应用需乞降工艺条目。在光学规模，常用的材料包括金、银、铜等金属，以及二氧化硅、氮化硅等非金属化合物。在电子器件规模，则需探究材料的导电性、绝缘性和通晓性等。

当作制备与加工难熔金属的中枢工夫之一，电子束工夫已在高温合金的成型制造与精好意思、高温合金的焊合、名义改性以及涂层制备等规模得到了粗造应用：

1. 光学规模：如光学镀膜，提高光学器件的性能。

2. 电子器件：用于制造半导体器件、集成电路等。

3. 磁性材料：制备磁性薄膜，应用于磁纪录等规模。

4. 隐敝镀膜：为饰品、工艺品等提供高质料的镀膜。

5. 刀具镀膜：提高刀具的硬度、耐磨性和耐腐蚀性。

6. 动力规模：在太阳能电板、燃料电板等规模发挥曲折作用。

7. 生物医学：举例镀膜用于医疗器械，擢升其性能。

8. 航空航天、国防军工以及核工业等各个规模中。

此外，跟着对高温合金使用性能要求的不断提高以及新式高温合金的开辟，电子束工夫在高温合金中的应用也濒临着新的挑战。